发明名称 |
从衬底去除物质的方法和组合物 |
摘要 |
描述可用于从衬底,例如光致抗蚀剂晶圆去除有机和有机金属物质的组合物。方法呈现为将最小体积的组合物以涂层形式施加于无机衬底,其中施加充分的热量,以及通过冲洗完全去除有机或有机金属物质。该组合物和方法可适用于从电子设备去除,以及在一些情况下,完全溶解正性和负性类型的光致抗蚀剂,和特别是负性干燥膜光致抗蚀剂。 |
申请公布号 |
CN104024394A |
申请公布日期 |
2014.09.03 |
申请号 |
CN201380002634.4 |
申请日期 |
2013.04.24 |
申请人 |
戴纳洛伊有限责任公司 |
发明人 |
R.D.彼得斯;T.阿克拉;曹远美;S.E.霍赫施特特勒;M.T.菲尼斯;K.D.波拉 |
分类号 |
C11D11/00(2006.01)I;C11D7/32(2006.01)I |
主分类号 |
C11D11/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
韦欣华;李炳爱 |
主权项 |
一种组合物,其包含:a) 约20 wt%至约90 wt%的并非二甲基亚砜的极性非质子溶剂;b) 约1 wt%至约70 wt%的至少一种烷醇胺;c) 低于约3 wt%的氢氧化季铵;和d) 水。 |
地址 |
美国田纳西州 |