| 发明名称 | 一种用于成膜的真空腔室检测设备及真空腔室检测方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于成膜的真空腔室的检测设备，包括：一真空腔室；设置于所述真空腔室内的光源；设置于所述真空腔室内用于承载所述玻璃基板的承载装置；检测装置，用于基于所述光源发射的光对所述玻璃基板的检测点进行检测，获取一光学检测结果；数据比较器，用于将所述光学检测结果与标准样本数据进行比较以判断所述玻璃基板上是否有污染物。本发明还涉及一种真空腔室检测方法。本发明的有益效果是：及时发现玻璃基板是否存在有机污染物，防止成膜真空腔室污染，提高产品良率。 | ||
| 申请公布号 | CN104022053A | 申请公布日期 | 2014.09.03 |
| 申请号 | CN201410211751.8 | 申请日期 | 2014.05.20 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 王守坤;郭总杰;郭会斌;冯玉春;李梁梁 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;黄灿 |
| 主权项 | 一种用于成膜的真空腔室的检测设备，其特在于，包括：一真空腔室；设置于所述真空腔室内的光源；设置于所述真空腔室内用于承载所述玻璃基板的承载装置；检测装置，用于基于所述光源发射的光对所述玻璃基板的检测点进行检测，获取一光学检测结果；数据比较器，用于将所述光学检测结果与标准样本数据进行比较以判断所述玻璃基板上是否有污染物。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||