发明名称 |
电平移位LDMOS嵌于结终端中的集成电路芯片及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及一种电平移位LDMOS嵌于结终端中的集成电路芯片,包括位于芯片外围的结终端,被所述结终端包围的高盆区域,以及设于所述结终端和高盆区域之间的自举电平区域;所述电平移位LDMOS嵌于所述结终端中,所述集成电路芯片还包括隔离环和金属互联线,所述电平移位LDMOS与结终端之间被所述隔离环隔离,所述金属互联线从电平移位LDMOS的漏极出发,跨过部分结终端、隔离环及高盆区域后连接至所述自举电平区域。本发明还涉及一种电平移位LDMOS嵌于结终端中的集成电路芯片的制造方法。本发明金属互联线上的电压较小,对其跨过的区域影响就较小,对耐压的影响也较小。另外将电平移位LDMOS嵌入高压结终端中,充分利用了高压结终端的面积,能够节省芯片面积。 |
申请公布号 |
CN104022110A |
申请公布日期 |
2014.09.03 |
申请号 |
CN201410248074.7 |
申请日期 |
2014.06.05 |
申请人 |
无锡华润上华半导体有限公司 |
发明人 |
张森;顾力晖;张国华 |
分类号 |
H01L27/02(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/02(2006.01)I |
代理机构 |
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 |
代理人 |
邓云鹏 |
主权项 |
一种电平移位LDMOS嵌于结终端中的集成电路芯片,包括位于芯片外围的结终端,被所述结终端包围的高盆区域,以及设于所述结终端和高盆区域之间的自举电平区域;其特征在于,所述电平移位LDMOS嵌于所述结终端中,所述集成电路芯片还包括隔离环和金属互联线,所述电平移位LDMOS与结终端之间被所述隔离环隔离,所述金属互联线从电平移位LDMOS的漏极出发,跨过部分结终端、隔离环及高盆区域后连接至所述自举电平区域。 |
地址 |
214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 |