发明名称 |
曝光装置及已曝光材料的制造方法 |
摘要 |
不使用复杂且昂贵的机构,而更加准确地对曝光用掩膜与被曝光材料的相对位置进行特定,并且,消除使用了曝光装置的作业时间的延迟。本发明的曝光装置具备摄像部、对位控制部和曝光开始时机控制部,所述摄像部对通过微透镜阵列在曝光用掩膜上成像的第一对位用标记的至少一部分和第二对位用标记进行摄像,若摄像结束,则向规定方向移动,以不妨碍对被曝光材料进行曝光,所述对位控制部基于第一及第二对位用标记的位置信息,对被曝光材料与曝光用掩膜进行对位,所述曝光开始时机控制部在摄像部移动结束前,使来自光源的曝光光开始照射。 |
申请公布号 |
CN104024943A |
申请公布日期 |
2014.09.03 |
申请号 |
CN201380004517.1 |
申请日期 |
2013.01.04 |
申请人 |
V科技股份有限公司 |
发明人 |
桥本和重 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
谢顺星;张晶 |
主权项 |
一种曝光装置,其特征在于,具备光源、曝光用掩膜、微透镜阵列、摄像部、图像识别部、对位控制部和曝光开始时机控制部;所述光源对被曝光材料照射曝光光;所述曝光用掩膜保持在所述光源与所述被曝光材料之间;所述微透镜阵列配置在所述被曝光材料与所述曝光用掩膜之间;所述摄像部为了使用设置在所述被曝光材料上的第一对位用标记和设置在所述曝光用掩膜上的第二对位用标记,对所述被曝光材料与所述曝光用掩膜进行对位,对通过所述微透镜阵列在所述曝光用掩膜上成像的第一对位用标记的至少一部分和所述第二对位用标记进行摄像,若所述摄像结束,则向规定方向移动,以不妨碍对所述被曝光材料的曝光;所述图像识别部对通过所述摄像部摄像得到的第一对位用标记的至少一部分和第二对位用标记进行识别;所述对位控制部基于通过所述图像识别部识别到的第一对位用标记的至少一部分和第二对位用标记的位置信息,对所述被曝光材料与所述曝光用掩膜进行对位;所述曝光开始时机控制部在所述摄像部的所述移动结束前,使来自所述光源的所述曝光光开始照射。 |
地址 |
日本神奈川县 |