发明名称 |
一种连续脱羧反应装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种脱羧反应装置,它包括(a)一个圆筒型脱羧反应室(10),该圆筒型脱羧反应室(10)包括反应室壁(3);(b)与该圆筒型脱羧反应室(10)同轴安装的刮板筒(9),该刮板筒(9)包括上底环(21)、下底环(41)、在所述上底环(21)和下底环(41)之间与所述反应室壁(3)平行的多根刮板(31),所述上底环(21)和下底环(41)具有相同的直径,所述多根刮条中的一部分刮条与所述反应器壁之间的间距小于1cm,而另一部分刮条与所述反应器壁之间的间距为1-5cm;(c)安装在所述圆筒型脱羧反应室(10)下方基本水平放置的固体干燥室(4),该固体干燥室(4)内部装有推动物料向前移动的螺旋状机械装置(5),外部装有加热装置(6)。 |
申请公布号 |
CN203803486U |
申请公布日期 |
2014.09.03 |
申请号 |
CN201320851031.9 |
申请日期 |
2013.12.20 |
申请人 |
上海三爱富新材料股份有限公司 |
发明人 |
张智勇;陈焱锋;李作铭 |
分类号 |
B01J19/18(2006.01)I;C07C43/17(2006.01)I;C07C41/18(2006.01)I |
主分类号 |
B01J19/18(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
朱黎明 |
主权项 |
一种脱羧反应装置,它包括:(a)一个圆筒型脱羧反应室(10),该圆筒型脱羧反应室(10)包括反应室壁(3);(b)与该圆筒型脱羧反应室(10)同轴安装的刮板筒(9),该刮板筒(9)包括上底环(21)、下底环(41)、在所述上底环(21)和下底环(41)之间与所述反应室壁(3)平行的多根刮板(31),所述上底环(21)和下底环(41)具有相同的直径,所述多根刮条中的一部分刮条与所述反应器壁之间的间距小于1cm,而另一部分刮条与所述反应器壁之间的间距为1‑5cm;(c)安装在所述圆筒型脱羧反应室(10)下方基本水平放置的固体干燥室(4),该固体干燥室(4)内部装有推动物料向前移动的螺旋状机械装置(5),外部装有加热装置(6)。 |
地址 |
200241 上海市闵行区龙吴路4411号 |