一种清洁处理元件的装置

摘要

本发明提供使用各种兆声装置，结合选择性的化学制品以从在半导体、医学或其他任何处理环境中使用的处理设备的表面除去亚微米微粒污染物的方法和装置，其中该兆声装置包括兆声槽、扫描兆声板、兆声喷管和兆声扫描波束等。

主权项

一种清洁处理元件的装置，包含： 具有空腔的槽，该空腔由底部和一个或多个从该底部延伸的侧壁和面对该底部的开口限定，该槽被配置为在该空腔内容纳一定量的流体以浸泡该处理元件； 耦合至一支撑结构并延伸入该空腔内的一定量的流体中的板组件，该支撑结构位于接近该槽的开口处，其中该板组件被配置为以扫描运动沿着位于槽的开口附近的水平面移动，从而当在槽的空腔内存在处理元件时，使该板组件在该处理元件的表面上方移动，以及其中该板组件本身包括传感器元件和共振器元件，从而高频兆声波束能量由可调整至多个方向的该板组件产生，该板组件的多个方向中的某些方向具有大体垂直于该处理元件表面的方向的定位设置； 载体组件，其中该载体组件被限定为支撑位于该槽的空腔内的处理元件，该载体组件具有用于在清洁过程中翻转该处理元件的机械装置；以及 其中该处理元件是半导体器件处理元件，不是半导体晶片。