| 发明名称 | 相偏移光罩的制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种相偏移光罩的制作方法，在形成图案化的相移层之后，采用等离子体处理所述图案化的相移层，生成了稳定性更高的致密膜层，之后再进行清洗，能够有效的降低清洗时清洗液对相移层的腐蚀程度，从而能够防止相移层受到较大的损耗，也就提高了相偏移光罩的质量。 | ||
| 申请公布号 | CN104020639A | 申请公布日期 | 2014.09.03 |
| 申请号 | CN201310066256.8 | 申请日期 | 2013.03.01 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 严世传 |
| 分类号 | G03F1/68(2012.01)I;G03F1/82(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/68(2012.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种相偏移光罩的制作方法，其特征在于，包括：提供基底，并在所述基底上形成图案化的相移层；对所述图案化的相移层进行等离子体处理；清洗所述相偏移光罩。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||