发明名称 用于地下水污染处理井反应材料的还原装置及使用方法
摘要 本发明涉及一种用于地下水污染处理井反应材料的还原装置,该装置设有还原剂灌注管(1),还原剂注浆管(1)上安装有上膨胀器(3)和下膨胀器(5),加压泵(20)通过加压管(19)及连通管(4)与膨胀器(3)和下膨胀器(5)连通在一起,还原剂灌注管(1)的底部由封堵头(21)进行封堵,还原剂灌注管(1)上设有出流孔(8),还原剂灌注管(1)的上端设有还原剂(17)、伺服泵(16)及压力表(18);使用时,将还原剂加入适量水,形成要求浓度还原剂(17),在伺服泵(16)的作用下进入到还原剂灌注管(1)中,使得反应材料被还原,恢复反应材料的处理能力,还原处理后,将该装置由井壁管(14)内抽出。
申请公布号 CN104016426A 申请公布日期 2014.09.03
申请号 CN201410208160.5 申请日期 2014.05.19
申请人 山东省水利科学研究院 发明人 李福林;田志刚;宋玉田;陈学群;管青花
分类号 C02F1/00(2006.01)I;C02F103/06(2006.01)N 主分类号 C02F1/00(2006.01)I
代理机构 济南鲁科专利代理有限公司 37214 代理人 周长义;崔民海
主权项 一种用于地下水污染处理井反应材料的还原装置,其特征在于:该装置设有还原剂灌注管(1),还原剂注浆管(1)上安装有上膨胀器(3)和下膨胀器(5),上膨胀器(3)和下膨胀器(5)由弹性材料制成,在上膨胀器(3)和下膨胀器(5)的两端分别设有压紧头(2),以使得膨胀器密封,上膨胀器(3)和下膨胀器(5)之间设有连通管(4),加压泵(20)通过加压管(19)及连通管(4)与膨胀器(3)和下膨胀器(5)连通在一起,还原剂灌注管(1)的底部由封堵头(21)进行封堵,上膨胀器(3)和下膨胀器(5)之间的还原剂灌注管(1)上设有出流孔(8),在出流孔(8)上设有弹性单向阀(7),以防止浆液回流,还原剂灌注管(1)的上端设有还原剂(17)、伺服泵(16)及压力表(18)。
地址 250013 山东省济南市历下区历山路125号