| 发明名称 | 真空减压干燥设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种真空减压干燥设备，涉及显示器制造技术领域，能够提高彩膜基板的生产效率。所述真空减压干燥设备，包括上盖和底座，所述上盖与所述底座之间形成腔室；所述腔室中设置有可开合的挡板，所述挡板在闭合时将所述腔室分隔为上腔室和下腔室；所述上腔室中设置有朝向所述下腔室的摄像头和光源，所述下腔室壁上设置有抽气口。 | ||
| 申请公布号 | CN203811942U | 申请公布日期 | 2014.09.03 |
| 申请号 | CN201420226569.5 | 申请日期 | 2014.05.05 |
| 申请人 | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 郭杨辰;汪栋 |
| 分类号 | G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;F26B25/06(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1333(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种真空减压干燥设备，其特征在于，包括：上盖和底座，所述上盖与所述底座之间形成腔室；所述腔室中设置有可开合的挡板，所述挡板在闭合时将所述腔室分隔为上腔室和下腔室；所述上腔室中设置有朝向所述下腔室的摄像头和光源；所述下腔室壁上设置有抽气口。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区北京市经济技术开发区经海一路118号 | ||