发明名称 一种变口径管磨粒流超精密抛光测控系统
摘要 本实用新型公开了一种变口径管磨粒流超精密抛光测控系统,应用于液压站上,包括直线位移测控单元、流量测控单元、压力测控单元、温度测控单元,直线位移测控单元由第一限位开关、第二限位开关、钢制指针、光栅尺及数据采集系统组成,钢制指针安装于第一限位开关和第二限位开关之间,所述光栅尺位于所述钢制指针的侧方并与数据采集系统连接,用于检测位移测量信号,并将位移测量信号发送给数据采集系统。本实用新型公开的测控系统,可以对变口径管等密闭空间的零件光整加工,使磨料与变口径管通道实现碰撞接触,实现磨粒流超精密抛光。
申请公布号 CN203804790U 申请公布日期 2014.09.03
申请号 CN201420147184.X 申请日期 2014.03.28
申请人 长春理工大学 发明人 李俊烨;张心明;朱立峰;赵伟宏;刘薇娜;杨立峰
分类号 B24B49/00(2012.01)I;B24B51/00(2006.01)I;B24B1/00(2006.01)I 主分类号 B24B49/00(2012.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种变口径管磨粒流超精密抛光测控系统,应用于液压站上,其特征在于,包括直线位移测控单元、流量测控单元、压力测控单元、温度测控单元,直线位移测控单元由第一限位开关、第二限位开关、钢制指针、光栅尺及数据采集系统组成,钢制指针安装于第一限位开关和第二限位开关之间,所述光栅尺位于所述钢制指针的侧方并与数据采集系统连接,用于检测位移测量信号,并将位移测量信号发送给数据采集系统。
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