高分子化合物、化学增幅型光阻材料、利用该化学增幅型光阻材料之图案形成方法

摘要

本发明课题在于提供一种高分子化合物、含有该高分子化合物之化学增幅光阻材料及利用该化学增幅光阻材料之图案形成方法，其中该高分子化合物在以ArF准分子雷射光、EUV等高能射线为光源的光微影法中，可得到能形成解析度优良，特别是图案形状之矩形性优良，甚而对基板之密接性优异之图案的光阻材料。;解决手段为一种含有以下述通式(1)表示之重复单元的高分子化合物：;(1)

主权项

一种高分子化合物，系含有以下述通式(1)表示之重复单元：(式中，R1表示氢原子、氟原子、甲基及三氟甲基之任一者，R2、R3及R4分别独立表示经取代或未经取代之碳数1~10之直链状、分支状或环状烷基、烯基、及氧烷基之任一者、或经取代或未经取代之碳数6~18之芳基、芳烷基、及芳氧烷基之任一者，或者R2、R3及R4当中之任两者以上可相互键结而与式中之硫原子共同形成环，X1表示0或CH2，A1表示碳数1~10之直链状、分支状或环状2价烃基，B1表示可含有氟除外之杂原子之碳数1~10之伸烷基或碳数6~18之伸芳基，k1表示0或1之整数)。