发明名称 周缘部涂布装置、周缘部涂布方法及周缘部涂布用记录媒体;PERIPHERY COATING APPARATUS, PERIPHERY COATING METHOD AND STORAGE MEDIUM THEREFOR
摘要 本发明之目的在于提供一种周缘部涂布装置、周缘部涂布方法及周缘部涂布用记录媒体,可仅在基板的周缘部效率良好地形成膜厚极为均匀的涂布膜。为达成上述之目的,于周缘部涂布单元中,进行扫入控制及扫出控制;该扫入控制,系在使晶圆W旋转的同时,从光阻液喷嘴27吐出光阻液,并使光阻液喷嘴27从晶圆W之周缘Wb的外侧往晶圆W的周缘部Wc上移动;该扫出控制,系在使晶圆W旋转的同时,从光阻液喷嘴27吐出光阻液,并使光阻液喷嘴27从晶圆W之周缘部Wc上往晶圆W之周缘Wb的外侧移动;在进行扫出控制时,以速度v2使光阻液喷嘴27移动,该速度v2低于光阻液往晶圆W之周缘Wb侧移动的速度v3。
申请公布号 TW201433366 申请公布日期 2014.09.01
申请号 TW102144063 申请日期 2013.12.02
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 畠山真一;佐藤好友;田代和之;木下尙文
分类号 B05D1/40(2006.01);B05B13/02(2006.01) 主分类号 B05D1/40(2006.01)
代理机构 代理人 <name>周良谋</name><name>周良吉</name>
主权项
地址 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本