薄膜形成方法及薄膜形成装置;THIN FILM FORMING METHOD AND THIN FILM FORMING APPARATUS

摘要

本发明旨在提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置,其中在被收纳于反应室内之被处理体形成薄膜之薄膜形成方法包含:第1步骤,将第1原料气体与第2原料气体供给至该反应室内;及第2步骤,停止供给该第1原料气体,对该反应室内供给该第2原料气体,该反应室内之压力高于该第1步骤中之压力;且交互地重复该第1步骤与该第2步骤复数次。