成膜装置

摘要

[课题]提供一种反应气体与置换气体之更换性高且可形成面内均匀性佳的膜之成膜装置。[解决手段]在对真空环境之处理室内的基板(W)依序供给相互反应之复数个种类的反应气体并进行成膜处理的成膜装置中,与载置有基板(W)之载置部(2)对向设置,天井部(31)系具有从朝向外周逐渐扩展之形状的倾斜面构造。设于该天井部(31)之区域的复数个气体供给部(4)中,沿着圆周方向形成有复数个气体吐出口(42),而以从下方侧覆盖该些气体供给部(4)的方式予以设置的喷头(5)系经由复数个气体供给口,朝向基板(W)喷洒状地供给气体。且,该喷头(5)的外缘系位在比载置于载置部(2)之基板(W)的外缘更内侧处。