发明名称 投射曝光系统与投射曝光方法
摘要 投射曝光系统包含照射系统(ILL)及投射物镜(PO),照射系统(ILL)用于接收由主要辐射源(S)产生具有操作波长λ的主要辐射,以及用于形成主要辐射以产生照射辐射,其入射到提供预设图案(PAT)之光罩(M),投射物镜(PO)用于在影像侧数值孔径NA,将设置在投射物镜之物件表面(OS)中的图案之影像投射到设置在投射物镜之影像表面(IS)中的辐射敏感基板(W)。角度选择过滤配置(FA)设置在一过滤平面中,其位于投射物镜之物件表面光学下游之投射光束路径中的场表面上或接近于该场表面。角度选择过滤配置作用于根据角度选择过滤函数过滤入射到过滤配置之辐射。过滤函数包含针对入射角小于截止入射角AOICUT而有入射辐射强度之相对高透射率之通带(PB),以及针对入射角大于截止入射角AOICUT而有入射辐射强度之相对低透射率之止带(SB)。AOICUT=arcsin(NA*|β|)的条件成立,β为在过滤平面上或接近于该过滤平面之场表面与投射物镜之影像表面间之影像形成的放大率。
申请公布号 TWI451208 申请公布日期 2014.09.01
申请号 TW100134770 申请日期 2011.09.27
申请人 卡尔蔡司SMT有限公司 德国 发明人 葛劳普纳 保罗;康拉帝 欧拉夫;查塞克 克里斯多夫;优里奇 威尔汉;毕尔 汉穆特;葛纳 托拉夫;葛艾舒滋 渥克
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 李宗德 台北市大安区敦化南路2段218号5楼A区
主权项 一种投射曝光系统,包含:一照射系统,用于接收由一主要辐射源产生具有操作波长λ的主要辐射,以及用于形成该主要辐射以产生照射辐射入射到提供一预设图案之一光罩;一投射物镜,用于以一影像侧数值孔径NA,将设置在该投射物镜之一物件表面中的该图案之一影像投射到设置在该投射物镜之一影像表面的一辐射敏感基板;一角度选择过滤配置,设置在一过滤平面中,其位于该投射物镜之该物件表面光学下游之一投射光束路径中的一场表面上或接近于该场表面;其中该角度选择过滤配置作用于根据一角度选择过滤函数过滤入射到该过滤配置之辐射,该过滤函数包含:针对入射角AOI小于一截止入射角AOICUT而有入射辐射强度之相对高透射率之一通带,以及针对入射角大于该截止入射角AOICUT而有入射辐射强度之相对低透射率之一止带;其中AOICUT=arcsin(NA * | |)的条件成立,为在该过滤平面上或接近于该过滤平面之该场表面与该投射物镜之该影像表面间之一影像形成的一放大率。
地址 德国
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