发明名称 硬化膜形成用热硬化性树脂组成物、负型感放射线性树脂组成物、正型感放射线性树脂组成物、硬化膜、其形成方法、半导体元件及显示元件
摘要 本发明之目的系提供一种可形成具有优异的表面硬度并且可充分满足灵敏度、显影接着性、耐化学性、耐热性、透射率以及相对介电常数等之一般特性的硬化膜,且保存稳定性优异的硬化膜形成用热硬化性树脂组成物、负型感放射线性树脂组成物、正型感放射线性树脂组成物。本发明系一种硬化膜形成用热硬化性树脂组成物,其含有[A1]具有结构单元(I)和结构单元(II-1)的聚合物,该结构单元(I)包含选自包含下述式(1)所表示的基团以及下述式(2)所表示的基团之群组中的至少一种,该结构单元(II-1)包含交联性基团(a1)。又,本发明系一种负型感放射线性树脂组成物,其含有:[A2]具有结构单元(I)和结构单元(II-2)的聚合物,该结构单元(I)包含选自包含下述式(1)所表示的基团以及下述式(2)所表示的基团之群组中的至少一种,该结构单元(II-2)包含交联性基团(a2);[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物;以及[C]感放射线性聚合起始剂。再者,本发明系一种正型感放射线性树脂组成物,其含有:[A3]具有结构单元(I)和结构单元(II-3)的聚合物,该结构单元(I)包含选自包含下述式(1)所表示的基团以及由下述式(2)所表示的基团之群组中的至少一种,该结构单元(II-3)包含环状醚结构或环状碳酸酯结构;以及[G]酸产生体。式(1)中,R1及R2为氢原子、碳原子数1~4的烷基或碳原子数1~4的氟烷基。式(2)中,R3及R4为氢原子、卤素原子、碳原子数1~4的烷基或碳原子数1~4的氟烷基。上述交联性基团(a1)较佳为选自包含环氧乙烷基以及氧杂环丁基(oxetanyl group)之群组中的至少一种。
申请公布号 TW201433883 申请公布日期 2014.09.01
申请号 TW103101355 申请日期 2014.01.15
申请人 JSR股份有限公司 发明人 三岛绘里;西村幸生;下川努;八代隆郎
分类号 G03F7/038(2006.01);G03F7/039(2006.01);C08F220/28(2006.01);C08F220/30(2006.01) 主分类号 G03F7/038(2006.01)
代理机构 代理人 <name>丁国隆</name>
主权项
地址 JSR CORPORATION 日本