| 发明名称 |
制造经沟槽化之化学机械研磨层之方法;METHOD OF MANUFACTURING GROOVED CHEMICAL MECHANICAL POLISHING LAYERS |
| 摘要 |
系提供一种制造用于化学机械研磨垫之经沟槽化研磨层之方法,其中,该研磨层中缺陷之形成被最小化。 |
| 申请公布号 |
TW201433411 |
申请公布日期 |
2014.09.01 |
| 申请号 |
TW102133452 |
申请日期 |
2013.09.16 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料ＣＭＰ控股公司 |
发明人 |
汉卓恩 杰弗瑞 詹姆斯;瓦瓦拉 肯尼斯;米勒 杰弗瑞 伯查德;康尔 布莱恩Ｔ;磨内 詹姆士Ｔ;麦克哈吉 凯萨林;麦克兰 乔治Ｈ;哈特 杜瑞Ａ;伯帝 罗伯特Ａ;杨 克里斯多佛Ａ |
| 分类号 |
B24B37/16(2012.01);B24B37/26(2012.01) |
主分类号 |
B24B37/16(2012.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>洪武雄</name><name>陈昭诚</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC. 美国 |
