发明名称 辐射系统、微影装置及用于抑制辐射系统中之碎片的方法
摘要 本发明揭示一种辐射系统,该辐射系统经组态以产生一辐射光束。该辐射系统包括:一辐射源,该辐射源经组态以产生发射辐射及碎片之一电浆;及一辐射集光器,该辐射集光器经组态以将经收集辐射引导至一辐射光束发射孔径。一磁场产生器经组态以产生具有一磁场强度梯度之一磁场以将该电浆引导远离于该辐射集光器。
申请公布号 TWI451814 申请公布日期 2014.09.01
申请号 TW098113068 申请日期 2009.04.20
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 白尼 凡丁 叶弗真叶米希;洛卜史塔 艾瑞克 罗勒夫;依法诺 法拉帝莫 维塔拉维屈;科维桑 法拉帝莫 米亥欧维屈
分类号 H05G2/00;G03F7/20 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种经组态以产生一辐射光束之辐射系统,该辐射系统包含:一辐射源,该辐射源经组态以产生发射辐射及碎片之一电浆;一辐射集光器(collector),该辐射集光器用以将经收集之辐射引导至一辐射光束发射孔径;一磁场产生器,该磁场产生器经组态以产生具有一磁场强度梯度之一磁场以将该电浆引导远离于该辐射集光器;及一气体供应源,该气体供应源经组态以将一气体供应至包含该电浆之一容积(volume),其中该气体供应源及该磁场产生器作为一磁泵(magnetic pump),其组态以将该碎片之中性粒子引导远离于该集光器。
地址 荷兰