正型光阻组成物及图案形成方法

摘要

一种正型光阻组成物，其包括：;(A)一种具有由式(I)表示之酸可分解重复单元且因酸之作用增加其在硷显影剂中溶解度的树脂；;(B)一种在以光似射线或辐射照射时产生酸之化合物；;(C)一种树脂，其具有：氟原子与矽原子至少之一；及选自(x)至(z)之基；及;(D)一种溶剂：;(x)硷溶性基，;(y)因硷显影剂之作用分解且增加树脂(C)在硷显影剂中溶解度之基，及;(z)因酸之作用分解之基，;(I);其中，;Xa1表示氢原子、烷基、氰基、或卤素原子，Ry1至Ry3各独立地表示烷基或环烷基，而且Ry1至Ry3至少之二可连结形成环结构，及Z表示二价键联基。

主权项

一种正型光阻组成物，其包括：一种具有由式(I)表示之酸可分解重复单元且因酸之作用增加其在硷显影剂中溶解度的树脂(A)；一种在以光似射线或辐射照射时产生酸之化合物(B)；一种树脂(C)，其具有：氟原子与矽原子至少之一；及因酸之作用分解之基；及一种溶剂(D)，其中树脂(C)的量按组成物之总固体含量计为0.1至10质量%：其中，Xa1表示氢原子、烷基、氰基、或卤素原子，Ry1至Ry3各独立地表示烷基或环烷基，而且Ry1至Ry3至少之二可连结形成环结构，及Z表示二价键联基。