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Vorrichtung zur Vermessung eines abbildenden optischen Systems (2, 200) durch Überlagerung von Mustern, umfassend: ein in einem Strahlengang (4) vor dem abbildenden optischen System (2, 200) positionierbares erstes Gittermuster (6) mit einer ersten Gitterstruktur (16), ein in dem Strahlengang (4) nach dem abbildenden optischen System (2, 200) positionierbares zweites Gittermuster (8) mit einer zweiten Gitterstruktur (18), sowie eine Sensoreinheit (15) zur ortsauflösenden Vermessung eines bei der Abbildung der ersten Gitterstruktur (16) des ersten Gittermusters (6) auf die zweite Gitterstruktur (18) des zweiten Gittermusters (8) erzeugten Überlagerungs-Streifenmusters, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Gitterstruktur (16) und die zweite Gitterstruktur (18) sich durch Korrekturstrukturen (17) unterscheiden. |
