发明名称 Verfahren zum Herstellen eines fotoelektrischen Umwandlers sowie fotoelektrischer Umwandler
摘要 Verfahren zur Herstellung eines fotoelektrischen Umwandlers (1), mit den folgenden Schritten: Ausbilden eines Blockier-/Trennungsfilms (7) umfassend Titanoxid mit einer amorphen Struktur und mit einem Mischverhältnis von Sauerstoff/Titan von 1,8 oder mehr auf einem transparenten Elektrodenfilm (5) zur Vermeidung von Kurzschlüssen, Ausbilden eines Strom-/Spannungserzeugungsschichtfilms (9) aus Elektrontransportpartikeln (9a) und aus einem Lochtransportmaterial (9c) auf dem Blockier-/Trennungsfilm (7), und Ausbilden eines Gegenelektrodenfilms (11) auf dem Strom-/Spannungserzeugungsschichtfilm (9), wobei der Blockier-/Trennungsfilm (7) auf Basis eines Vakuum-Filmausbildungsprozesses hergestellt wird.
申请公布号 DE10197130(B4) 申请公布日期 2014.08.28
申请号 DE2001197130 申请日期 2001.10.31
申请人 SONY CORPORATION;SONY DEUTSCHLAND GMBH 发明人 IWABUCHI, KIETSU;KONDO, HIROFUMI;YASUDA, AKIO;NELLES, GABRIELE
分类号 H01L51/48;H01G9/20;H01L31/0352;H01L31/18;H01L51/44 主分类号 H01L51/48
代理机构 代理人
主权项
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