| 摘要 |
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Mikrosiebs angegeben, bei dem – in einem ersten Schritt ein Träger bereitgestellt wird, – in einem zweiten Schritt eine Fotolackschicht mit einer festlegbaren Dicke auf einen Träger aufgebracht wird, – in einem Belichtungsschritt die Fotolackschicht mittels Einwirkung von Strahlung unter Verwendung einer Maske, die die Struktur des Mikrosiebs festlegt, belichtet wird, – in einem Entwicklungsschritt eine Entwicklung des Fotolacks vorgenommen wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Dicke der Fotolackschicht so gewählt wird, dass in einen Teilbereich der Fotolackschicht die zur Belichtung verwendete Strahlung nur noch so geringfügig eindringt, dass praktisch keine Vernetzung des Fotolacks mehr stattfindet. |
