| 摘要 |
本发明涉及一种用于同时运输待在真空处理装置(11)中处理的至少两个基质(28)的运输装置，其带有关于共同的轴线(1)可旋转地支承的且彼此轴向错位地布置的至少两个支承装置(12,14)，在其处分别布置有构造用于容纳至少一个基质(28)的至少一个保持框架(20,22,24,26)，其中，保持框架(20,22,24,26)通过支承装置(12,14)围绕轴线(1)的旋转运动可带到处理单元(50)的彼此相对而置的作用区域中，并且其中，支承装置(12,14)彼此间具有这样的轴向间距，使得处理单元(50)可布置在它们之间。 |
| 主权项 |
一种用于同时运输待在真空处理装置(11)中处理的至少两个基质(28)的运输装置，其带有关于共同的轴线(1)可旋转地支承的且彼此轴向错位地布置的至少两个支承装置(12, 14)，在所述支承装置(12, 14)处分别布置有构造用于容纳至少一个基质(28)的至少一个保持框架(20, 22, 24, 26)，其中，所述保持框架(20, 22, 24, 26)通过所述支承装置(12, 14)围绕所述轴线(1)的旋转运动能够带到处理单元(50)的彼此相对而置的作用区域中，并且其中，所述支承装置(12, 14)彼此间具有这样的轴向间距，使得所述处理单元(50)能够布置在所述支承装置(12, 14)之间。 |
