发明名称 面发光激光阵列、光学扫描装置和成像装置
摘要 一种面发光激光阵列,包括设置成二维阵列形式的多个面发光激光二极管元件,其中,从沿第二方向排列的多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于沿同该第二方向垂直的第一方向延伸的直线绘制的多条直线被形成为沿该第一方向具有大致相等的间隔,多个面发光激光二极管元件沿第一方向以被设定为基准值的间隔排列,以及沿第一方向排列的面发光激光二极管元件的数量少于沿第二方向排列的面发光激光二极管元件的数量。
申请公布号 CN101346858B 申请公布日期 2014.08.27
申请号 CN200780000885.3 申请日期 2007.04.27
申请人 株式会社理光 发明人 佐藤俊一;伊藤彰浩;庄子浩义;林义纪;市井大辅;原敬;藤井光美
分类号 H01S5/183(2006.01)I;B41J2/44(2006.01)I 主分类号 H01S5/183(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 张祥
主权项 一种用于光学扫描装置的面发光激光阵列,包括设置成二维阵列形式的多个面发光激光二极管元件,其中,提供了彼此垂直相交的假想第一轴线和假想第二轴线,从所述多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于所述假想第一轴线绘制的多条直线被形成为在所述假想第一轴线上具有大致相等的间隔,提供沿第一方向排列的第一多个所述面发光激光二极管元件,提供沿第二方向排列的第二多个所述面发光激光二极管元件,所述第一方向和所述第二方向彼此相交,且所述假想第一轴线与所述第一方向重合,而所述假想第二轴线与所述第一方向不重合且与所述第二方向形成角度;在所述第一多个所述面发光激光二极管元件中的所述面发光激光二极管元件为基准值的间隔排列,在所述第一多个所述面发光激光二极管元件中的面发光激光二极管元件的数量小于在所述第二多个所述面发光激光二极管中的面发光激光二极管元件的数量,从所述第一多个所述面发光激光二极管元件中的所述面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于所述假想第一轴线绘制的线之间的间隔小于从所述第二多个所述面发光激光二极管元件中的所述面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于所述假想第二轴线绘制的线的间隔,其中,所述假想第一轴线被设定为沿所述光学扫描装置的副扫描方向延伸,以及所述假想第二轴线被设定为沿所述光学扫描装置的主扫描方向延伸。
地址 日本东京都