| 发明名称 | 一种减压干燥装置及阵列光刻工艺设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：干燥室；用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内；所述减压干燥装置还包括：用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。本实用新型还提供一种阵列光刻工艺设备。本实用新型的有益效果是：减压干燥的同时进行加热，将减压干燥工艺和前烘工艺同时进行，降低成本、提高生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN203799174U | 申请公布日期 | 2014.08.27 |
| 申请号 | CN201420156215.8 | 申请日期 | 2014.04.01 |
| 申请人 | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 张民;周子卿;王涛;吴磊;陈朋 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;安利霞 |
| 主权项 | 一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：干燥室；用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内；其特征在于，所述减压干燥装置还包括：用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。 | ||
| 地址 | 100176 北京市经济技术开发区经海一路118号 | ||