发明名称 |
一种改善晶圆腐蚀均匀性装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种改善晶圆腐蚀均匀性装置,包括晶圆载具,所述晶圆载具包括旋转机构及固定机构,所述晶圆载具上端承载晶圆;所述晶圆载具下端设有至少一个扇形部件,所述晶圆载具可旋转并带动晶圆或扇形部件,所述扇形部件与晶圆半径一致且与晶圆位于同心轴上,所述扇形部件表面上设有可向晶圆背面垂直喷射液体的喷射孔,所述喷射孔按照扇形部件从圆心到圆弧的方向分为不同的扇区,所述每个扇区的喷射孔独立连接供喷射液体通过的管道,所述管道上设有可控制喷射液体通过的时间或/和流量的阀。本实用新型结构简单、操作简易,改善了晶圆中间薄、边缘厚的现象,最终达到晶圆腐蚀均匀的效果。 |
申请公布号 |
CN203800020U |
申请公布日期 |
2014.08.27 |
申请号 |
CN201320892403.2 |
申请日期 |
2013.12.31 |
申请人 |
北京七星华创电子股份有限公司 |
发明人 |
冯晓敏;史彦慧;吴仪 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 |
代理人 |
吴世华;陶金龙 |
主权项 |
一种改善晶圆腐蚀均匀性装置,包括晶圆载具,所述晶圆载具包括旋转机构及固定机构,所述晶圆载具上端承载晶圆,其特征在于,所述晶圆载具下端设有至少一个扇形部件,所述晶圆载具可旋转并带动晶圆或扇形部件,所述扇形部件与晶圆半径一致且与晶圆位于同心轴上,所述扇形部件表面上设有可向晶圆背面垂直喷射液体的喷射孔,所述喷射孔按照扇形部件从圆心到圆弧的方向分为不同的扇区,所述每个扇区的喷射孔独立连接供喷射液体通过的管道,所述管道上设有可控制喷射液体通过的时间或/和流量的阀。 |
地址 |
100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |