发明名称 一种改善晶圆腐蚀均匀性装置
摘要 本实用新型公开了一种改善晶圆腐蚀均匀性装置,包括晶圆载具,所述晶圆载具包括旋转机构及固定机构,所述晶圆载具上端承载晶圆;所述晶圆载具下端设有至少一个扇形部件,所述晶圆载具可旋转并带动晶圆或扇形部件,所述扇形部件与晶圆半径一致且与晶圆位于同心轴上,所述扇形部件表面上设有可向晶圆背面垂直喷射液体的喷射孔,所述喷射孔按照扇形部件从圆心到圆弧的方向分为不同的扇区,所述每个扇区的喷射孔独立连接供喷射液体通过的管道,所述管道上设有可控制喷射液体通过的时间或/和流量的阀。本实用新型结构简单、操作简易,改善了晶圆中间薄、边缘厚的现象,最终达到晶圆腐蚀均匀的效果。
申请公布号 CN203800020U 申请公布日期 2014.08.27
申请号 CN201320892403.2 申请日期 2013.12.31
申请人 北京七星华创电子股份有限公司 发明人 冯晓敏;史彦慧;吴仪
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人 吴世华;陶金龙
主权项 一种改善晶圆腐蚀均匀性装置,包括晶圆载具,所述晶圆载具包括旋转机构及固定机构,所述晶圆载具上端承载晶圆,其特征在于,所述晶圆载具下端设有至少一个扇形部件,所述晶圆载具可旋转并带动晶圆或扇形部件,所述扇形部件与晶圆半径一致且与晶圆位于同心轴上,所述扇形部件表面上设有可向晶圆背面垂直喷射液体的喷射孔,所述喷射孔按照扇形部件从圆心到圆弧的方向分为不同的扇区,所述每个扇区的喷射孔独立连接供喷射液体通过的管道,所述管道上设有可控制喷射液体通过的时间或/和流量的阀。 
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