发明名称 |
制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法 |
摘要 |
本发明提供一种制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:衬底清洗:依次使用丙酮、无水乙醇、去离子水清洗衬底后放入磁控溅射室样品架上;设置重金属掺杂:取钼丝固定在锌靶上,钼丝分布形状为圆心辐射状,钼掺杂量控制在0.5-10%范围内;抽取真空:将磁控溅射室抽真空;调节溅射气氛:分别以氧气和氩气作为反应气体和溅射气体输入磁控溅射室,氧气纯度为99.99%,氩气纯度在99.95%以上,氧气流量与氩气流量的比值控制在3:2至4:1之间;磁控溅射生长:使用60W的溅射功率,在0.8pa、室温条件下,先对锌靶预溅射5min,然后进行反应溅射生长钼掺杂的氧化锌薄膜。本发明制得的产品与现有的氧化锌薄膜相比具有更好的透过率。 |
申请公布号 |
CN104004990A |
申请公布日期 |
2014.08.27 |
申请号 |
CN201410242295.3 |
申请日期 |
2014.06.03 |
申请人 |
上海理工大学 |
发明人 |
王咸海;洪瑞金;脱文刚;张大伟;陶春先 |
分类号 |
C23C14/08(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/08(2006.01)I |
代理机构 |
上海德昭知识产权代理有限公司 31204 |
代理人 |
郁旦蓉 |
主权项 |
一种制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:衬底清洗:依次使用丙酮、无水乙醇、去离子水清洗衬底后放入磁控溅射室样品架上;设置重金属掺杂:取钼丝固定在锌靶上,钼丝分布形状为圆心辐射状,钼掺杂量控制在0.5‑10%范围内;抽取真空:将所述磁控溅射室抽真空;调节溅射气氛:分别以氧气和氩气作为反应气体和溅射气体输入所述磁控溅射室,氧气纯度为99.99%,氩气纯度在99.95%以上,氧气流量与氩气流量的比值控制在3:2至4:1之间;磁控溅射生长:使用60W的溅射功率,在0.8pa、室温条件下,先对所述锌靶预溅射5min,然后进行反应溅射生长钼掺杂的氧化锌薄膜。 |
地址 |
200093 上海市杨浦区军工路516号 |