| 发明名称 | 批处理式基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及批处理式基板处理装置。本发明的批处理式基板处理装置的特征在于，具备：基板处理部（100），收容层叠在基板装载部（500）上的多个基板（40）并进行处理；供气部（200），其形成在基板处理部（100）的一侧外周面上，收容有供基板处理气体流通的至少一个供气流道(250)，以将基板处理气体供给至基板处理部(100)，其中，当基板（40）与基板处理部（100）的内周面之间的距离为d1，基板（40）与供气流道（250）之间的距离为d2时，d1≦d2。 | ||
| 申请公布号 | CN104005005A | 申请公布日期 | 2014.08.27 |
| 申请号 | CN201410067222.5 | 申请日期 | 2014.02.26 |
| 申请人 | 泰拉半导体株式会社 | 发明人 | 李炳一;李太浣;柳汉吉 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 姜虎;陈英俊 |
| 主权项 | 一种批处理式基板处理装置，其特征在于，具备：基板处理部，收容层叠在基板装载部上的多个基板并进行处理；以及供气部，其形成在所述基板处理部的一侧外周面上，收容有供基板处理气体流通的至少一个供气流道，以将基板处理气体供给至所述基板处理部，其中，当基板与所述基板处理部的内周面之间的距离为d1，基板与所述供气流道之间的距离为d2时，d1≦d2。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||