发明名称 |
半导体器件 |
摘要 |
本实用新型提供了一种半导体器件,包括:第一阱,嵌入在半导体衬底中;第二阱,嵌入在所述半导体衬底中;栅极结构,在所述第一阱和所述第二阱之上;以及凸起型漏极结构,在所述第二阱之上并与所述第二阱接触并且与所述栅极结构分开,所述凸起型漏极结构包括在所述第二阱的表面之上的漏极连接点。因此,能够提供一种具有高击穿电压的半导体器件。 |
申请公布号 |
CN203800057U |
申请公布日期 |
2014.08.27 |
申请号 |
CN201320878759.0 |
申请日期 |
2013.12.26 |
申请人 |
美国博通公司 |
发明人 |
伊藤明 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 |
代理人 |
田喜庆 |
主权项 |
一种半导体器件,包括:第一阱,嵌入在半导体衬底中;第二阱,嵌入在所述半导体衬底中;栅极结构,在所述第一阱和所述第二阱之上;以及凸起型漏极结构,在所述第二阱之上并与所述第二阱接触并且与所述栅极结构分开,所述凸起型漏极结构包括在所述第二阱的表面之上的漏极连接点。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |