发明名称 半导体器件
摘要 本实用新型提供了一种半导体器件,包括:第一阱,嵌入在半导体衬底中;第二阱,嵌入在所述半导体衬底中;栅极结构,在所述第一阱和所述第二阱之上;以及凸起型漏极结构,在所述第二阱之上并与所述第二阱接触并且与所述栅极结构分开,所述凸起型漏极结构包括在所述第二阱的表面之上的漏极连接点。因此,能够提供一种具有高击穿电压的半导体器件。
申请公布号 CN203800057U 申请公布日期 2014.08.27
申请号 CN201320878759.0 申请日期 2013.12.26
申请人 美国博通公司 发明人 伊藤明
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 田喜庆
主权项 一种半导体器件,包括:第一阱,嵌入在半导体衬底中;第二阱,嵌入在所述半导体衬底中;栅极结构,在所述第一阱和所述第二阱之上;以及凸起型漏极结构,在所述第二阱之上并与所述第二阱接触并且与所述栅极结构分开,所述凸起型漏极结构包括在所述第二阱的表面之上的漏极连接点。
地址 美国加利福尼亚州