| 发明名称 | 强磁性材料溅射靶 | ||
| 摘要 | 一种强磁性材料溅射靶，其为包含Pt为5摩尔%以上、其余为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶的组织具有金属基质（A）和在所述（A）中的、含有40～76摩尔%的Pt的Co-Pt合金相（B）。一种强磁性材料溅射靶，其为包含Pt为5摩尔%以上、Cr为20摩尔%以下、其余为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶的组织具有金属基质（A）和在所述（A）中的、包含含有40～76摩尔%的Pt的Co-Pt合金的相（B）。本发明得到提高漏磁通、通过磁控溅射装置可以稳定放电的强磁性材料溅射靶。 | ||
| 申请公布号 | CN103080368B | 申请公布日期 | 2014.08.27 |
| 申请号 | CN201180042894.5 | 申请日期 | 2011.12.06 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 荒川笃俊;池田祐希 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C22C1/04(2006.01)I;C22C1/10(2006.01)I;C22C5/04(2006.01)I;C22C19/07(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种强磁性材料溅射靶，其为包含Pt为5摩尔％以上且45摩尔％以下、其余为Co的组成的金属的烧结体溅射靶，其特征在于，该靶的组织具有金属基质(A)和在所述(A)中的、包含含有40～76摩尔％的Pt的Co‑Pt合金的相(B)，并且该相(B)的粒径为10～150μm。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||