发明名称 一种体硅谐振式压力传感器的圆片级真空封装方法
摘要 本发明涉及一种应用于体硅谐振式压力传感器的圆片级封装方法,其步骤包括:1)根据谐振式压力传感器的结构选取合适的SOI硅片和进行阳极键合的玻璃片;2)对SOI硅片的器件层进行台阶刻蚀,形成器件结构;3)去除部分埋氧层,释放器件结构;4)将SOI片和玻璃片进行真空阳极键合;5)对硅片进行减薄;6)通过光刻定义引线窗口,然后刻蚀硅,露出埋氧层;7)去除引线窗口内的埋氧层;8)在硅片表面淀积二氧化硅,形成电学隔离;9)对淀积的二氧化硅进行刻蚀,形成pad孔;10)淀积金属pad。本发明采用圆片级封装,工艺流程简单,能够大大降低体硅谐振式压力传感器的真空封装成本。
申请公布号 CN104003350A 申请公布日期 2014.08.27
申请号 CN201410205595.4 申请日期 2014.05.15
申请人 北京大学 发明人 何军;张大成;黄贤;张立;赵丹淇;王玮;杨芳;田大宇;刘鹏;李婷;罗葵
分类号 B81C1/00(2006.01)I;G01L1/10(2006.01)I 主分类号 B81C1/00(2006.01)I
代理机构 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 代理人 余长江
主权项 一种体硅谐振式压力传感器的圆片级真空封装方法,其步骤包括:1)根据体硅谐振式压力传感器的结构选取SOI硅片和用于进行阳极键合的玻璃片;2)对SOI硅片的器件层进行台阶刻蚀,形成器件结构;3)去除SOI硅片的部分埋氧层,释放器件结构;4)将SOI硅片和玻璃片进行真空阳极键合;5)对硅片进行减薄,剩余厚度与器件设计尺寸相吻合;6)通过光刻定义引线窗口,然后刻蚀硅,露出埋氧层;7)去除引线窗口内的埋氧层;8)在硅片表面淀积二氧化硅,形成电学隔离;9)对淀积的二氧化硅进行刻蚀,形成pad孔;10)淀积金属pad。
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