发明名称 EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 노광 장치는 투영광학계 (PL) 바로 아래의 영역을 제외하는 웨이퍼 스테이지 (WST1) 의 이동 범위를 커버하는 스케일판 (21) 에, 웨이퍼 스테이지 (WST1) 상에 탑재된 4 개의 헤드 (60~ 60) 를 사용하여 계측 빔을 조사하는 것에 의해, 웨이퍼 스테이지 (WST1) 의 위치 정보를 계측하는 인코더 시스템을 구비하고 있다. 여기서, 헤드 (60~ 60) 의 배치 간격 (A, B) 는 각각 스케일판 (21) 의 개구의 폭 (ai, bi) 보다 크게 정해진다. 이것에 의해, 웨이퍼 스테이지의 위치에 따라 4 개의 헤드 중으로부터 스테일판에 대향하는 3 개의 헤드를 스위칭하여 사용하는 것에 의해, 웨이퍼 스테이지의 위치 정보를 계측하는 것이 가능하게 된다.
申请公布号 KR20140103313(A) 申请公布日期 2014.08.26
申请号 KR20147018871 申请日期 2010.08.24
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 SHIBAZAKI YUICHI
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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