发明名称 |
熔体纯化以及输送系统 |
摘要 |
一种纯化熔体之装置。于腔室中在第一方向冷凝熔体之第一部分。在第一方向熔化第一部分的小部分。熔体之第二部分保持冷凝。从腔室流出熔体,以及从腔室移除第二部分。冷凝以在溶体及第二部分中浓缩溶质。第二部分可以是高溶质浓度之块体。此系统可以并入板形成装置及其他组件,例如帮浦、过滤器或微粒捕集阱。 |
申请公布号 |
TWI449816 |
申请公布日期 |
2014.08.21 |
申请号 |
TW098120702 |
申请日期 |
2009.06.19 |
申请人 |
瓦里安半导体设备公司 美国 |
发明人 |
凯乐门 彼得L;辛克莱 法兰克;卡尔森 菲德梨克;布雷克 朱利安G |
分类号 |
C30B13/28;C30B35/00;C30B29/06 |
主分类号 |
C30B13/28 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
一种纯化的方法,包括:将冷却器与加热器相对于腔室沿着第一方向转换;于所述腔室中在所述第一方向冷凝熔体之部分以形成凝固熔体;在所述第一方向熔化所述凝固熔体之第一部分,使所述凝固熔体之第二部分保持冷凝;从所述腔室流出所述熔体;以及从所述腔室移除所述凝固熔体的所述第二部分。 |
地址 |
美国 |