发明名称 |
非挥发性记忆体及其制造方法 |
摘要 |
一种非挥发性记忆体,设置于基底上,此非挥发记忆体具有隔离结构、浮置闸极、闸介电层。隔离结构设置于基底中,以定义出主动区。浮置闸极设置于基底上,并横跨主动区。闸介电层设置于浮置闸极与基底之间。浮置闸极区分为第一区域与第二区域,第二区域的能带能阶低于第一区域的能带能阶,使得储存在浮置闸极中的电荷远离浮置闸极与闸介电层重叠的区域。 |
申请公布号 |
TWI450384 |
申请公布日期 |
2014.08.21 |
申请号 |
TW098114226 |
申请日期 |
2009.04.29 |
申请人 |
力旺电子股份有限公司 新竹市科学园区园区二路47号305室 |
发明人 |
王世辰;景文澔 |
分类号 |
H01L27/115;H01L21/8247 |
主分类号 |
H01L27/115 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
一种非挥发性记忆体,设置于一基底上,包括:一隔离结构,设置于该基底中,以定义出一主动区;一闸介电层,设置于该基底的该主动区上;以及一浮置闸极,设置于该闸介电层与该隔离结构上,并横跨该主动区,其中该浮置闸极区包括一第一区域与一第二区域,该第一区域至少设置在该主动区与该隔离结构的界面上,该第二区域远离该主动区与该隔离结构的界面,藉由掺杂制程使该第一区域与该第二区域的能带能阶不同,并将大部分的电荷储存在该浮置闸极的该第二区域,其中该第二区域的导电型态与该第一区域的导电型态相反。 |
地址 |
新竹市科学园区园区二路47号305室 |