发明名称 镍/铟/锡/铜多层结构之制造方法
摘要 本发明系与一种镍/铟/锡/铜多层结构之制造方法有关,其系将镍/铟/锡/铜之多层结构形成于一第一基板(铜基板)与一第二基板(例如矽晶圆)之间,并进一步地藉由回焊接合制程与时效热处理后,形成复数个介金属层于该镍/铟/锡/铜多层结构之内,该复数个介金属层系包括:一第一介金属层、一第二介金属层与一第三介金属层,分别为(Cu,Ni)6(Sn,In)5、(Cu,Ni)6(Sn,In)5与(Ni,Cu)3(Sn,In)4;如此,藉由该些金属层之形成,系使得镍/铟/锡/铜之多层结构具有良好之湿润性、延展性、抗潜变能力与抗疲劳性;此外,该镍/铟/锡/铜之多层结构可经由低温接合而制得,故其适合作为传统高温含铅焊料之替代焊料,并应用于三维IC之构装制程中。
申请公布号 TWI449620 申请公布日期 2014.08.21
申请号 TW101143180 申请日期 2012.11.20
申请人 国立台湾科技大学 台北市大安区基隆路4段43号 发明人 颜怡文;黄品儒
分类号 B32B15/04;B32B37/06 主分类号 B32B15/04
代理机构 代理人 王清煌 台北市信义区基隆路1段420号12楼之4
主权项 一种镍/铟/锡/铜多层结构之制造方法,系包括以下步骤:(1)于一第一基板上依序电镀一第一镍层与一铟层;(2)于一第二基板上溅镀一第二镍层,并透过微影技术于该第二镍层上,形成具有一特定图案的一光阻层;(3)于该第二基板与该光阻层之上,依序电镀一铜层与一锡层;(4)去除该光阻层以使得复数个铜柱形成于该第二基板上;(5)将上述之该第一基板叠合至该第二基板上,以使得该第一基板表面之铟层与该第二基板上的该些铜柱紧密接触;(6)对该第一基板或该第二基板施予一荷重后,再于一特定回焊温度下进行一特定回焊时间的一回焊接合制程;以及(7)将上述步骤(6)之产物进行烘烤,并于一特定热处理温度下进行一特定热处理时间的一时效热处理,藉以形成包含复数个介金属层之一多层结构。
地址 台北市大安区基隆路4段43号