发明名称 半导体装置
摘要 本发明提供一种可提升面积利用效率并维持电晶体T之特性、再者谋求整流元件D之低顺向电压化之半导体装置。;半导体装置1,具备整流元件D与电晶体T。整流元件D,具有:电流路径43;第1主电极11,系配置于其之一端且具有整流作用;第2主电极12,系配置于其之另一端;以及第1辅助电极15,系配置于其之第1主电极11与第2主电极12之间,相较于第1主电极11顺向电压较大。电晶体T,具有:电流路径43;第3主电极13,于其之一端配置在与电流路径43交叉之方向;控制电极14,系以包围第3主电极13之方式配置;以及第2主电极12。
申请公布号 TWI450382 申请公布日期 2014.08.21
申请号 TW100113131 申请日期 2011.04.15
申请人 三垦电气股份有限公司 日本 发明人 町田修;岩渊昭夫
分类号 H01L27/04 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种半导体装置,具备整流元件与电晶体;该整流元件,具有:电流路径;第1主电极,系配置于该电流路径之一端且具有整流作用;第2主电极,系配置于该电流路径之另一端;以及第1辅助电极,系配置于该电流路径之该第1主电极与该第2主电极之间,相较于该第1主电极顺向电压较大;该电晶体,具有:该电流路径;第3主电极,于该电流路径之该一端在与该电流路径交叉之方向与该第1主电极分离配置;控制电极,系以包围该第3主电极之周围之方式配置;以及该第2主电极。
地址 日本