发明名称 |
半导体装置 |
摘要 |
本发明提供一种可提升面积利用效率并维持电晶体T之特性、再者谋求整流元件D之低顺向电压化之半导体装置。;半导体装置1,具备整流元件D与电晶体T。整流元件D,具有:电流路径43;第1主电极11,系配置于其之一端且具有整流作用;第2主电极12,系配置于其之另一端;以及第1辅助电极15,系配置于其之第1主电极11与第2主电极12之间,相较于第1主电极11顺向电压较大。电晶体T,具有:电流路径43;第3主电极13,于其之一端配置在与电流路径43交叉之方向;控制电极14,系以包围第3主电极13之方式配置;以及第2主电极12。 |
申请公布号 |
TWI450382 |
申请公布日期 |
2014.08.21 |
申请号 |
TW100113131 |
申请日期 |
2011.04.15 |
申请人 |
三垦电气股份有限公司 日本 |
发明人 |
町田修;岩渊昭夫 |
分类号 |
H01L27/04 |
主分类号 |
H01L27/04 |
代理机构 |
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代理人 |
阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
一种半导体装置,具备整流元件与电晶体;该整流元件,具有:电流路径;第1主电极,系配置于该电流路径之一端且具有整流作用;第2主电极,系配置于该电流路径之另一端;以及第1辅助电极,系配置于该电流路径之该第1主电极与该第2主电极之间,相较于该第1主电极顺向电压较大;该电晶体,具有:该电流路径;第3主电极,于该电流路径之该一端在与该电流路径交叉之方向与该第1主电极分离配置;控制电极,系以包围该第3主电极之周围之方式配置;以及该第2主电极。 |
地址 |
日本 |