| 发明名称 |
使用以磁性固定在基板座上的遮罩以沉积侧向图案薄膜之方法及装置 |
| 摘要 |
一种使用平贴在欲涂布基板表面(2’)上的遮罩(3)而在基板座(1)之基板(2)上沉积侧向图案薄膜之装置，其基板座(1)具有第一磁性区(4)，以吸附使遮罩(3)位置配合于第一磁性区(4)的第二磁性区(5)；第一磁性区(4)在以基板(2)上方之遮罩(3)进行基板(2)涂布之前，被移至一个主动位置，在该位置时，第二磁性区(5)被吸附在基板表面(2’)上；而在放置或取下遮罩(3)时，被移至一个非主动位置，在该位置时，作用于第二磁性区(5)的吸力减弱。第一磁性区(4)由容置在基板座(1)之基板承载面(1’)凹部(6)中的永久磁性元件所构成，其位置与第二磁性区(5)相对。 |
| 申请公布号 |
TWI449800 |
申请公布日期 |
2014.08.21 |
| 申请号 |
TW098131744 |
申请日期 |
2009.09.21 |
| 申请人 |
爱思强公司 德国 |
发明人 |
葛斯多夫 马库斯;法兰肯 华特;欧佛曼斯 阿诺 |
| 分类号 |
C23C14/04;C23C16/04 |
主分类号 |
C23C14/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
| 主权项 |
一种使用平贴在欲涂布基板表面(2’)上的遮罩(3)而在基板座(1)之基板(2)上沉积侧向图案薄膜之装置，其基板座(1)具有第一磁性区(4)，以吸附使遮罩(3)位置配合于第一磁性区(4)的第二磁性区(5)；第一磁性区(4)在以基板(2)上方之遮罩(3)进行基板(2)涂布之前，被移至一个主动位置，在该位置时，第二磁性区(5)被吸附在基板表面(2’)上；而在放置或取下遮罩(3)时，被移至一个非主动位置，在该位置时，作用于第二磁性区(5)的吸力减弱；其特征为：第一磁性区(4)由容置在基板座(1)之基板承载面(1’)凹部(6)中的永久磁性元件所构成，其位置与第二磁性区(5)相对。 |
| 地址 |
德国 |
