发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明揭露一种半导体装置,包含:一半导体晶片,具有一第一表面;一导电电极,曝露于该第一表面;一保护层,覆盖该半导体晶片,该保护层具有贯穿的一保护层开口于该导电电极上;一重布线路层于该保护层上,该重布线路层经由该保护层开口电性连接该导电电极,该重布线路层具有一铝层;一镍/金层于该重布线路层的该铝层的上表面;以及一防焊层于该保护层与该重布线路层上,曝露出该重布线路层的一端点及其上方的该镍/金层。
申请公布号 TWI450371 申请公布日期 2014.08.21
申请号 TW097118087 申请日期 2008.05.16
申请人 精材科技股份有限公司 桃园县中坜市中坜工业区吉林路25号4楼 发明人 蔡佳伦;倪庆羽;陈志杰;钱文正
分类号 H01L23/485;H01L23/535;H01L21/56 主分类号 H01L23/485
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种半导体装置,包含:一半导体晶片,具有一第一表面;一导电电极,曝露于该第一表面;一保护层,覆盖该半导体晶片,该保护层具有贯穿的一保护层开口于该导电电极上;一重布线路层于该保护层上,该重布线路层经由该保护层开口电性连接该导电电极,该重布线路层具有一铝层;一镍/金层于该重布线路层的该铝层的上表面;以及一防焊层于该保护层与该重布线路层上,曝露出该重布线路层的一端点及其上方的该镍/金层。
地址 桃园县中坜市中坜工业区吉林路25号4楼