基材容器之清洁系统

摘要

本发明提供一种具有一基材容器容置区之清洁站(purging station)，其具有至少一朝上延伸之清洁喷嘴(purging nozzle)。该喷嘴具有一圆形啮合唇缘。该基材容器具有用于至少一基材之支撑装置以及一清洁埠总成，该清洁埠总成包含一自该容器朝下之朝外密封凸缘。该密封凸缘具有一孔及一悬臂式凸缘部，该悬臂式凸缘部啮合该喷嘴之该圆形啮合唇缘。该凸缘之悬臂部所承载的作用于于该喷嘴上之基材容器重量使该凸缘弯曲，藉以达成一弹性软密封。

主权项

一种光罩标准机械介面(Standard Mechanical Interface；SMIF)盒，用以容纳在半导体制造中所用之光罩，该盒包含：一上壳体，具有一开口之内部及一开口之底部；一门，用以于该开口之底部密封地啮合及闩锁至该上壳体，该门包含一基座、用于一光罩之复数支撑构件、以及一喷嘴介面，该等支撑构件系自该基座延伸出并界定一光罩盒容置区域，该喷嘴介面系面朝下以介接清洁喷嘴；该喷嘴介面包含一由一弹性聚合物形成之盘形悬臂式凸缘部，该悬臂式凸缘部具有一供清洁气体从中通过之中央开口，该悬臂式凸缘部自一支撑凸缘部沿径向向外延伸，该支撑凸缘部与一管状部成一体，该悬臂式凸缘部具有一朝下喷嘴啮合面和一朝上面，当该喷嘴啮合面不与一喷嘴啮合时，该悬臂式凸缘部之该朝上面不被支撑，该悬臂式凸缘部当与一清洁喷嘴相啮合时，被定位成可从水平方向向上同心地偏转至一圆锥形或圆的圆锥形位置。