磁控溅射真空镀膜设备中的圆柱管形磁控溅射阴极头

摘要

本实用新型属于一种磁控溅射真空镀膜设备中的圆柱管形磁控溅射阴极头，包括在靶管（5）中心装有靶芯（4），其特征在于在靶芯（4）与靶管（5）之间装有磁场强度5200GS的钕铁硼的磁钢b（2）；磁钢b（2）的右面装有磁场强度1500GS的锶铁氧体的磁钢c（3）；在磁钢b（2）和磁钢c（3）的两侧装有磁场强度5200GS的钕铁硼的磁钢a（1）；磁钢c（3）的右端面与磁钢a（1）的右端面长度差为Ln，Ln=10~50mm；磁钢b（2）的宽度Wb等于2倍的磁钢a（1）的宽度Wa。该实用新型解决了圆柱形磁控溅射阴极靶管端头刻蚀严重的问题，大大提高了靶材利用率，节省了材料，降低了成本。

主权项

一种磁控溅射真空镀膜设备中的圆柱管形磁控溅射阴极头，包括在靶管（5）中心装有靶芯（4），靶芯（4）右端装有定位套（7），定位套（7）的外面装有靶管堵（9），靶管堵（9）的外面装有靶管帽（6），靶芯（4）用配重条（11）和M3×6内六角螺钉（10）与热缩管（12）固定在一起，其特征在于在靶芯（4）与靶材（靶管）（5）之间装有磁场强度5200GS的钕铁硼的磁钢b（2），磁钢b（2）的长度为Lb，Lb=20~30mm；磁钢b（2）的右面装有磁场强度1500GS的锶铁氧体的磁钢c（3），磁钢c（3）的长度为Lc，Lc=16~24mm；在磁钢b（2）和磁钢c（3）的两侧装有磁场强度5200GS的钕铁硼的磁钢a（1），磁钢a（1）的长度为La，La=20~30mm；磁钢c（3）的右端面与磁钢a（1）的右端面长度差为Ln，Ln=10~50mm；磁钢b（2）的宽度为Wb，磁钢a（1）的宽度为Wa，磁钢b（2）的宽度Wb等于2倍的磁钢a（1）的宽度Wa；磁钢c（3）的长度Lc等于4/5的磁钢b（2）的长度Lb。