靶材基座及采用该靶材基座的镀膜装置

摘要

一种靶材基座，用于一镀膜装置。该靶材基座包括：基台，固定在该镀膜装置内；旋转载台，设置在基台上且能够相对该基台旋转；多个靶座，环设在该旋转载台周围，每个靶座面向该旋转载台的一面开设有一收纳空间；以及多个靶材部件，其分别通过一旋转轴对应设置在多个靶座上，所述旋转轴与一旋转马达连接且均收容在收纳空间内，所述旋转马达用于控制该旋转轴带动该靶材部件收容在收纳空间内或从收纳空间中伸出。该靶材基座能够控制靶材部件在镀膜过程中收容在收纳空间内或从收纳空间中伸出，避免靶材之间的污染且提高工作效率。本发明还提供一种采用该靶材基座的镀膜装置。

主权项

一种靶材基座，用于一镀膜装置，该靶材基座包括：基台，固定在该镀膜装置内；旋转载台，设置在基台上且能够相对该基台旋转；多个靶座，环设在该旋转载台周围，每个靶座面向该旋转载台的一面开设有一收纳空间；以及多个靶材部件，其分别通过一旋转轴对应设置在多个靶座上，所述旋转轴与一旋转马达连接且均收容在收纳空间内，所述旋转马达用于控制该旋转轴带动该靶材部件收容在收纳空间内或从收纳空间中伸出。