发明名称 一种用于太阳能电池的宽光谱多层减反钝化膜
摘要 本发明公开了一种用于太阳能电池的宽光谱多层减反钝化膜,为了解决目前太阳能电池领域减反膜减反效果差,减反光谱带窄的难题,所述用于太阳能电池的宽光谱多层减反钝化膜包括在硅基衬底太阳能电池PN结的迎光面发射极表面上依次沉积的多层光学减反钝化膜,多层膜的折射率由理论计算确定,膜层的厚度由光学薄膜设计软件TFCalc优化确定,所述多层光学减反钝化膜外设有EVA和玻璃;所述多层光学减反钝化膜中,各膜层折射率从基底材料向顶层材料递减,各膜层厚度由底层材料向顶层材料递增。本发明设计的膜体系无论是材料的折射率,还是膜层的厚度都满足光学薄膜设计的最佳匹配要求,因此大大拓宽了传统减反膜的低反射带区间,提高了太阳能电池的光电转换效率。
申请公布号 CN102723370B 申请公布日期 2014.08.20
申请号 CN201210200650.1 申请日期 2012.06.18
申请人 湖南红太阳光电科技有限公司 发明人 杨晓生;陈峰武
分类号 H01L31/0216(2014.01)I 主分类号 H01L31/0216(2014.01)I
代理机构 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人 马强
主权项 一种用于太阳能电池的宽光谱多层减反钝化膜,包括在硅基衬底(1)的太阳能电池PN结的迎光面的发射极表面上依次沉积的多层光学减反钝化膜,所述多层光学减反钝化膜外设有封装材料;所述多层光学减反钝化膜中,各膜层折射率由硅基衬底(1)上的第一层膜开始而从下向上依次递减,各膜层厚度由硅基衬底(1)上的第一层膜从下向上依次递增;其特征是,所述多层光学减反钝化膜满足条件:<maths num="0001" id="cmaths0001"><math><![CDATA[<mrow><mfrac><msub><mi>n</mi><mn>1</mn></msub><msub><mi>n</mi><mn>0</mn></msub></mfrac><mo>=</mo><mfrac><msub><mi>n</mi><mn>2</mn></msub><msub><mi>n</mi><mn>1</mn></msub></mfrac><mo>=</mo><mfrac><msub><mi>n</mi><mn>3</mn></msub><msub><mi>n</mi><mn>2</mn></msub></mfrac><mo>=</mo><mo>&CenterDot;</mo><mo>&CenterDot;</mo><mo>&CenterDot;</mo><mo>=</mo><mfrac><msub><mi>n</mi><mi>i</mi></msub><msub><mi>n</mi><mrow><mi>i</mi><mo>-</mo><mn>1</mn></mrow></msub></mfrac><mo>=</mo><mfrac><msub><mi>n</mi><mi>s</mi></msub><msub><mi>n</mi><mi>i</mi></msub></mfrac></mrow>]]></math><img file="FDA0000504433460000011.GIF" wi="867" he="199" /></maths>则在下列k个波长处实现零反射:<maths num="0002" id="cmaths0002"><math><![CDATA[<mrow><mfrac><mrow><mi>k</mi><mo>+</mo><mn>1</mn></mrow><mrow><mn>2</mn><mi>k</mi></mrow></mfrac><msub><mi>&lambda;</mi><mn>0</mn></msub><mo>,</mo><mfrac><mrow><mi>k</mi><mo>+</mo><mn>1</mn></mrow><mrow><mn>2</mn><mrow><mo>(</mo><mi>k</mi><mo>-</mo><mn>1</mn><mo>)</mo></mrow></mrow></mfrac><msub><mi>&lambda;</mi><mn>0</mn></msub><mo>,</mo><mfrac><mrow><mi>k</mi><mo>+</mo><mn>1</mn></mrow><mrow><mn>2</mn><mrow><mo>(</mo><mi>k</mi><mo>-</mo><mn>2</mn><mo>)</mo></mrow></mrow></mfrac><msub><mi>&lambda;</mi><mn>0</mn></msub><mo>,</mo><mo>&CenterDot;</mo><mo>&CenterDot;</mo><mo>&CenterDot;</mo><mfrac><mrow><mi>k</mi><mo>+</mo><mn>1</mn></mrow><mn>4</mn></mfrac><msub><mi>&lambda;</mi><mn>0</mn></msub><mo>,</mo><mfrac><mrow><mi>k</mi><mo>+</mo><mn>1</mn></mrow><mn>2</mn></mfrac><msub><mi>&lambda;</mi><mn>0</mn></msub></mrow>]]></math><img file="FDA0000504433460000012.GIF" wi="1205" he="152" /></maths>其中n<sub>0</sub>为入射介质折射率,n<sub>s</sub>为硅基衬底(1)的折射率,n<sub>1</sub>,n<sub>2</sub>,n<sub>3</sub>...n<sub>i‑1</sub>,n<sub>i</sub>表示相应膜层的折射率,其中n<sub>1</sub>是顶层低折射率材料的折射率,k=i,n<sub>i</sub>表示第i层膜层的折射率。
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