发明名称 |
一种用于介质材料平坦化的抛光液 |
摘要 |
本发明公开了一种用于介质材料平坦化的抛光液,其含有磨料,抛光促进剂,表面活性剂和多元脂肪醇。本发明的抛光方法可以减弱或防止在使用过程的干燥结块等问题,降低设备对保湿的要求,并具有较高的二氧化硅去除速率和较好的表面污染物指标。 |
申请公布号 |
CN102101981B |
申请公布日期 |
2014.08.20 |
申请号 |
CN200910201385.7 |
申请日期 |
2009.12.18 |
申请人 |
安集微电子(上海)有限公司 |
发明人 |
宋伟红;姚颖 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海翰鸿律师事务所 31246 |
代理人 |
李佳铭 |
主权项 |
一种抛光液在提高二氧化硅/多晶硅选择比中的应用,其中,所述抛光液含有磨料,抛光促进剂,表面活性剂和多元脂肪醇,其中所述的抛光促进剂为电解质,所述的电解质选自强酸强碱盐、强酸弱碱盐、弱酸弱碱盐和/或弱酸强碱盐中的一种或多种,所述的抛光促进剂的质量百分含量为0.1~2%,所述的磨料为二氧化硅,所述的磨料的质量百分含量为5~40%,所述的表面活性剂为非离子表面活性剂和/或阳离子表面活性剂,所述的非离子表面活性剂的质量百分含量为0.01~1%,所述的阳离子表面活性剂的浓度为50~1000ppm,所述的多元脂肪醇选自丙三醇、丁二醇、乙二醇、二乙二醇、丙二醇、已二醇、木糖醇和/或山梨糖醇中的一种或多种,所述的多元脂肪醇的质量百分含量为0.1%~10%。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 |