| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 一种基板处理装置，其包含有：水平保持基板的旋转卡盘；通过将磷酸水溶液供给于保持在旋转卡盘上的基板的上面，形成覆盖基板的上面全区域的磷酸水溶液的液膜的磷酸供给装置；以磷酸水溶液的液膜保持于基板上的状态加热基板的加热装置；向磷酸水溶液的液膜供给纯水的纯水供给装置。 | ||
| 申请公布号 | CN103996620A | 申请公布日期 | 2014.08.20 |
| 申请号 | CN201410052438.4 | 申请日期 | 2014.02.17 |
| 申请人 | 大日本网屏制造株式会社 | 发明人 | 日野出大辉;太田乔;藤原直树 |
| 分类号 | H01L21/311(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/311(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 张永康;向勇 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，其包含：水平保持基板的基板保持装置；通过将磷酸水溶液供给于保持在所述基板保持装置的基板的上面，形成覆盖所述基板的上面全区域的磷酸水溶液的液膜的磷酸供给装置；在所述磷酸水溶液的液膜保持于所述基板上的状态下加热所述基板的加热装置；向所述磷酸水溶液的液膜供给水的水供给装置。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||