发明名称 |
非易失性存储元件、非易失性存储装置、非易失性存储元件的制造方法及非易失性存储装置的制造方法 |
摘要 |
非易失性存储元件(20)具备:第1电极(105);第2电极(107);电阻变化层(106),介于第1电极(105)与第2电极(107)之间,将与第1电极(105)连接的第1电阻变化层(1061)和与第2电极(107)连接的第2电阻变化层(1062)层叠而构成;以及侧壁保护层(108),具有氧阻挡性,将上述电阻变化层(106)的侧面覆盖;第1电阻变化层(1061)由第1金属氧化物(106a)和形成在第1金属氧化物的周围且氧不足度比第1金属氧化物(106a)小的第3金属氧化物(106c)构成,第2电阻变化层(1062)由氧不足度比第1金属氧化物(106a)小的第2金属氧化物(106b)构成。 |
申请公布号 |
CN103999218A |
申请公布日期 |
2014.08.20 |
申请号 |
CN201280044072.5 |
申请日期 |
2012.09.10 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
米田慎一;三河巧;伊藤理;早川幸夫;姫野敦史 |
分类号 |
H01L27/105(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I;H01L49/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/105(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
徐殿军 |
主权项 |
一种非易失性存储元件,其特征在于,具备:第1电极;第2电极;电阻变化层,介于上述第1电极与上述第2电极之间,将与上述第1电极连接的第1电阻变化层和与上述第2电极连接的第2电阻变化层层叠而构成,基于施加在上述第1电极与上述第2电极之间的电信号而电阻值可逆地变化;以及侧壁保护层,具有氧阻挡性,将未与上述第1电极及上述第2电极中的任一个连接的上述电阻变化层的侧面覆盖;上述第1电阻变化层由第1金属氧化物和第3金属氧化物构成,该第3金属氧化物形成在该第1金属氧化物的周围并且氧不足度比该第1金属氧化物的氧不足度小,上述第2电阻变化层由氧不足度比上述第1金属氧化物层的氧不足度小的第2金属氧化物构成。 |
地址 |
日本大阪府 |