| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法和显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种阵列基板及其制作方法和显示装置，包括：像素电极，像素电极包括显示区域部分和非显示区域部分；形成在像素电极的非显示区域上的第一电极；形成在像素电极和第一电极上的钝化层，钝化层包括位于第一电极之上的过孔；形成在钝化层上的有源层和第二电极，有源层通过钝化层的过孔连接第一电极。本发明降低了制作成本，减少了对电极材料的腐蚀，提高了阵列基板的质量。 | ||
| 申请公布号 | CN103996683A | 申请公布日期 | 2014.08.20 |
| 申请号 | CN201410234336.4 | 申请日期 | 2014.05.29 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 孙双;崔承镇;牛菁;张方振 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李迪 |
| 主权项 | 一种阵列基板，其特征在于，包括：像素电极，所述像素电极包括显示区域部分和非显示区域部分；形成在所述像素电极的非显示区域上的第一电极；形成在所述像素电极和所述第一电极上的钝化层，所述钝化层包括位于所述第一电极之上的过孔；形成在所述钝化层上的有源层和第二电极，所述有源层通过所述钝化层的过孔连接所述第一电极。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||