发明名称 一种透明压控薄膜变容管及其制备方法
摘要 本发明公开了一种透明压控薄膜变容管的制备方法,首先采用固相烧结法于1000~1150℃烧制Bi<sub>1.5</sub>Zn<sub>1.0</sub>Nb<sub>1.5</sub>O<sub>7</sub>靶材;利用磁控溅射沉积技术,使用Ar和O<sub>2</sub>作为溅射气体,沉积得到Bi<sub>1.5</sub>Zn<sub>1.0</sub>Nb<sub>1.5</sub>O<sub>7</sub>薄膜;再于氧气气氛中进行后退火处理,再于薄膜上面制备金属电极,制得透明Bi<sub>1.5</sub>Zn<sub>1.0</sub>Nb<sub>1.5</sub>O<sub>7</sub>压控薄膜变容管。本发明透明性高,调谐率适中,器件稳定性好,且工艺简单,电极性能优良,具有良好的应用前景,为透明通讯和显示设备的开发和应用提供了优良的元器件基础。
申请公布号 CN103996541A 申请公布日期 2014.08.20
申请号 CN201410242800.4 申请日期 2014.05.30
申请人 天津大学 发明人 李玲霞;于仕辉;董和磊;许丹;金雨馨
分类号 H01G7/06(2006.01)I 主分类号 H01G7/06(2006.01)I
代理机构 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人 张宏祥
主权项 一种透明压控薄膜变容管的制备方法,具有如下步骤:(1)采用固相烧结法制备Bi<sub>1.5</sub>Zn<sub>1.0</sub>Nb<sub>1.5</sub>O<sub>7</sub>靶材按Bi<sub>1.5</sub>Zn<sub>1.0</sub>Nb<sub>1.5</sub>O<sub>7</sub>对应元素的化学计量比称取原料Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>、ZnO和Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub>,充分混合后压制成型,置于电炉中于1000~1150℃烧制Bi<sub>1.5</sub>Zn<sub>1.0</sub>Nb<sub>1.5</sub>O<sub>7</sub>靶材;(2)将清洁干燥的导电玻璃衬底放入磁控溅射样品台上;(3)将磁控溅射系统的本底真空度抽至1.0×10<sup>‑6</sup>~7.0×10<sup>‑6</sup>Torr,然后加热衬底至400~700℃;(4)在磁控溅射系统中,使用Ar和O<sub>2</sub>作为溅射气体,溅射功率为50~200W,在导电玻璃衬底上沉积得到Bi<sub>1.5</sub>Zn<sub>1.0</sub>Nb<sub>1.5</sub>O<sub>7</sub>薄膜;(5)待步骤(4)沉积有Bi<sub>1.5</sub>Zn<sub>1.0</sub>Nb<sub>1.5</sub>O<sub>7</sub>薄膜的导电玻璃衬底温度降至100℃以下时,取出制品,在氧气气氛炉中进行后退火处理;(6)在步骤(5)后退火处理后的Bi<sub>1.5</sub>Zn<sub>1.0</sub>Nb<sub>1.5</sub>O<sub>7</sub>薄膜上面利用掩膜版制备金属电极,制得透明压控薄膜变容管,即透明Bi<sub>1.5</sub>Zn<sub>1.0</sub>Nb<sub>1.5</sub>O<sub>7</sub>压控薄膜变容管。
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