| 发明名称 | 光学基材叠层和多层整体卷材的制造方法 | ||
| 摘要 | 公开了光学基材叠层和多层整体卷材的制造方法。所述光学基材叠层包括：第一光学基材；第二光学基材；和在所述光学基材之间的掩膜，该掩膜包括至少一层具有许多三维特征的释放层，每个三维特征的平均高度超过50微米；借助所述许多三维特征，所述掩模在所述第一光学基材和第二光学基材之间形成间隙。 | ||
| 申请公布号 | CN103991263A | 申请公布日期 | 2014.08.20 |
| 申请号 | CN201410209049.8 | 申请日期 | 2009.06.26 |
| 申请人 | 屈德加薄膜产品股份有限公司 | 发明人 | S·C·帕特尔;B·B·德塞;G·M·巴拉克霍夫;P·E·托马斯 |
| 分类号 | B32B33/00(2006.01)I;B32B37/04(2006.01)I | 主分类号 | B32B33/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 朱黎明 |
| 主权项 | 一种光学基材叠层，它包括：第一光学基材；第二光学基材；和在所述光学基材之间的掩膜，该掩膜包括至少一层具有许多三维特征的释放层，每个三维特征的平均高度超过50微米；借助所述许多三维特征，所述掩模在所述第一光学基材和第二光学基材之间形成间隙。 | ||
| 地址 | 美国弗吉尼亚州 | ||