| 发明名称 | 真空灭弧室及真空极柱 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空灭弧室（100），包括灭弧室主体（1），所述灭弧室主体（1）的内部形成有真空腔（14），所述灭弧室主体（1）的外表面上包覆有至少一层绝缘套（2）。本实用新型还公开了一种真空极柱（200）。本实用新型提供的真空灭弧室及真空极柱，其结构简单、绝缘效果好，加工工艺简单、操作方便，节约了材料和开模费用，降低了成本。 | ||
| 申请公布号 | CN203787342U | 申请公布日期 | 2014.08.20 |
| 申请号 | CN201420111573.7 | 申请日期 | 2014.03.12 |
| 申请人 | ABB技术有限公司 | 发明人 | 傅明海;迪特马尔·根奇;翁颖蕾 |
| 分类号 | H01H33/664(2006.01)I;H01H33/66(2006.01)I | 主分类号 | H01H33/664(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人 | 王昭林;张相升 |
| 主权项 | 一种真空灭弧室（100），其特征在于，包括灭弧室主体（1），所述灭弧室主体（1）的内部形成有真空腔（14），所述灭弧室主体（1）的外表面上包覆有至少一层绝缘套（2）。 | ||
| 地址 | 瑞士苏黎世 | ||