| 发明名称 | 一种光催化自清洁口罩的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种光催化自清洁口罩的制备方法，其特征在于，具体步骤包括：第一步：制备TiO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub>混合溶胶；第二步：将口罩去杂质，清洗，再将口罩进行射频等离子体预处理；第三步：将射频等离子体预处理后的口罩浸渍在TiO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub>混合溶胶中，采用二浸二轧工艺，然后在70-90℃下干燥3-8分钟后，在100-150℃下固化1-5分钟；用去离子水清洗后放在自然条件下干燥，得到光催化自清洁口罩。本发明制备方法所制得的自清洁口罩，自清洁效果好，效果持久。制备方法可适用于工业化生产。 | ||
| 申请公布号 | CN103989269A | 申请公布日期 | 2014.08.20 |
| 申请号 | CN201410219837.5 | 申请日期 | 2014.05.22 |
| 申请人 | 东华大学 | 发明人 | 高晶;李婉迪;王璐;刘军;汤宏宇 |
| 分类号 | A41D13/11(2006.01)I | 主分类号 | A41D13/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人 | 翁若莹 |
| 主权项 | 一种光催化自清洁口罩的制备方法，其特征在于，具体步骤包括：第一步：制备TiO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub>混合溶胶；第二步：将口罩去杂质，清洗，再将口罩进行射频等离子体预处理；第三步：将射频等离子体预处理后的口罩浸渍在TiO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub>混合溶胶中，采用二浸二轧工艺，然后在70‑90℃下干燥3‑8分钟后，在100‑150℃下固化1‑5分钟；用去离子水清洗后放在自然条件下干燥，得到光催化自清洁口罩。 | ||
| 地址 | 201620 上海市松江区人民北路2999号 | ||